半導體材料

石油化學系事業において長年培ってきた高分子技術を生かし、半導體の製造に用いられる材料を開発し、回路形成に用いるフォトレジスト、半導體の多層配線形成の工程に欠かせないCMP(Chemical Mechanical Planarization:化學的機械的研磨)用の材料など高品質で多様な市場ニーズに対応しています。

リソグラフィー材料

フォトレジスト

高感度から超高解像度まで幅広い用途のg線、i線フォトレジストや、光波長248nm(KrF)、193nm(ArF)、液浸露光用の高解像度フォトレジストなど、様々なニーズに備えた製品ラインアップを取り揃えています。

液浸露光用トップコート

液浸露光で使用される水などの液體がフォトレジスト材料へ浸透することを防ぐほか、フォトレジスト材料からの昇華物質が露光裝置の高級なレンズ表面に悪影響を及ぼすことを防ぐ役割をする材料です。

多層ハードマスク

微細加工用の有機?無機の塗布型ハードマスク材料です。

次世代リソグラフィー用材料

10nmノード以降の半導體デバイス生産に適用される技術のための材料です。

プロセス材料

CMPスラリー

高性能LSI製造に必要なCMP(Chemical Mechanical Planarization:化學的機械的研磨)用のCMPスラリーです。

CMP後洗浄剤

CMP後のウェハ上に殘留する金屬や有機殘渣、CMPスラリーなどの不純物を除去するための洗浄剤です

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